परिचयCIR-LOK ड्युअल-डिस्क लाइन फिल्टर्सचा वापर असंख्य औद्योगिक, रासायनिक प्रक्रिया, एरोस्पेस, न्यूक्लियर आणि इतर अनुप्रयोगांमध्ये केला जातो. ड्युअल-डिस्क डिझाइनसह, मोठे दूषित कण अपस्ट्रीम फिल्टर घटकापर्यंत पोहोचण्यापूर्वी आणि लहान मायक्रॉन-आकाराच्या डाउनस्ट्रीम घटकापर्यंत पोहोचण्यापूर्वीच अडकतात. आणि उच्च प्रवाह दर आणि कमाल फिल्टर पृष्ठभाग क्षेत्र दोन्ही आवश्यक असलेल्या उच्च दाब प्रणालींमध्ये उच्च प्रवाह कप-प्रकार लाइन फिल्टर्सची शिफारस केली जाते. औद्योगिक आणि रासायनिक प्रक्रिया क्षेत्रात मोठ्या प्रमाणावर वापरले जाणारे, कप डिझाइन डिस्क-प्रकार युनिट्सच्या तुलनेत सहा पट प्रभावी फिल्टर क्षेत्र देते.
वैशिष्ट्येकमाल कामकाजाचा दाब ६०,००० psig (१३७९ बार) पर्यंतकार्यरत तापमान -१००℉ ते ६५०℉ (-७३℃ ते ३४३℃)उपलब्ध आकार १/४, ३/८, ९/१६ इंचसाहित्य: ३१६ स्टेनलेस स्टील: बॉडी, कव्हर्स आणि ग्लँड नट्सफिल्टर: ३१६ एल स्टेनलेस स्टीलड्युअल-डिस्क फिल्टर फ्लेमेंट्स: डाउनस्ट्रीम/अपस्ट्रीम मायक्रॉन ५/१०, १०/३५ आणि ३५/६५ उपलब्धउच्च प्रवाही कप-प्रकार फिल्टर घटक: स्टेनलेस स्टील सिंटर्ड कप. मानक घटक 5, 35 किंवा 65 मायक्रॉन आकारांच्या निवडीमध्ये उपलब्ध आहेत.
फायदेफिल्टर घटक जलद आणि सहजपणे बदलता येतातप्रवाही स्थितीत दाबाचा फरक १,००० पीएसआय (६९ बार) पेक्षा जास्त नसावा.कमी दाबाच्या प्रणालींमध्ये कप-प्रकारचे लाइन फिल्टर्सची शिफारस केली जाते ज्यांना उच्च प्रवाह दर आणि जास्तीत जास्त फिल्टर पृष्ठभाग क्षेत्र आवश्यक असते.कप डिझाइन डिस्क-प्रकार युनिट्सच्या तुलनेत सहा पट जास्त प्रभावी फिल्टर क्षेत्र देते.
अधिक पर्यायपर्यायी उच्च प्रवाह कप-प्रकार आणि ड्युअल-डिस्क लाइन फिल्टर