परिचयCIR-LOK डुअल-डिस्क लाइन फिल्टर का उपयोग कई औद्योगिक, रासायनिक प्रसंस्करण, एयरोस्पेस, परमाणु और अन्य अनुप्रयोगों में किया जाता है।दोहरे डिस्क डिज़ाइन के साथ, बड़े दूषित कण अपस्ट्रीम फ़िल्टर तत्व द्वारा फंस जाते हैं, इससे पहले कि वे छोटे माइक्रोन-आकार के डाउनस्ट्रीम तत्व तक पहुंच सकें और उसे रोक सकें। फ़िल्टर तत्वों को आसानी से बदला जा सकता है।और उच्च प्रवाह दर और अधिकतम फिल्टर सतह क्षेत्र दोनों की आवश्यकता वाले मध्यम दबाव प्रणालियों में उच्च प्रवाह कप-प्रकार लाइन फिल्टर की सिफारिश की जाती है।औद्योगिक और रासायनिक प्रसंस्करण क्षेत्रों में व्यापक रूप से उपयोग किया जाने वाला कप डिज़ाइन डिस्क-प्रकार की इकाइयों की तुलना में छह गुना अधिक प्रभावी फ़िल्टर क्षेत्र प्रदान करता है।इसके अलावा, फ़िल्टर तत्वों को जल्दी और आसानी से बदला जा सकता है।
विशेषताएँअधिकतम कामकाजी दबाव 20,000 पीएसआईजी (1379 बार) तककार्य तापमान -60°F से 660°F (-50°C से 350°C)उपलब्ध आकार एमपीएफ 1/4, 3/8, 9/16, 3/4 और 1 इंचसामग्री: 316 स्टेनलेस स्टील: बॉडी, कवर और ग्लैंड नटफ़िल्टर: 316L स्टेनलेस स्टीलडुअल-डिस्क फिल्टर फ़्लेमेंट्स: डाउनस्ट्रीम/अपस्ट्रीम माइक्रोन आकार 35/65 मानक है।निर्दिष्ट होने पर 5/10 या 10/35 भी उपलब्ध है।अन्य तत्व संयोजन विशेष ऑर्डर पर उपलब्ध हैंउच्च प्रवाह कप-प्रकार फिल्टर तत्व: स्टेनलेस स्टील सिंटेड कप। मानक तत्व 5, 35 या 65 माइक्रोन आकार के विकल्प में उपलब्ध हैं।
लाभफ़िल्टर तत्वों को जल्दी और आसानी से बदला जा सकता हैप्रवाहित स्थिति में दबाव का अंतर 1,000 पीएसआई (69 बार) से अधिक नहीं होना चाहिएकम दबाव वाली प्रणालियों में कप-प्रकार लाइन फिल्टर की सिफारिश की जाती है, जिसमें उच्च प्रवाह दर और अधिकतम फिल्टर सतह क्षेत्र दोनों की आवश्यकता होती हैडिस्क-प्रकार की इकाइयों की तुलना में कप डिज़ाइन छह गुना अधिक प्रभावी फ़िल्टर क्षेत्र प्रदान करता है
अधिक विकल्पवैकल्पिक उच्च प्रवाह कप-प्रकार और दोहरी-डिस्क लाइन फिल्टर