ভূমিকাCIR-LOK ডুয়াল-ডিস্ক লাইন ফিল্টারগুলি অসংখ্য শিল্প, রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ, মহাকাশ, পারমাণবিক এবং অন্যান্য অ্যাপ্লিকেশনে ব্যবহৃত হয়। ডুয়াল-ডিস্ক ডিজাইনের সাহায্যে, বৃহৎ দূষণকারী কণাগুলি ছোট মাইক্রন-আকারের ডাউনস্ট্রিম উপাদানে পৌঁছানোর এবং আটকে দেওয়ার আগেই আপস্ট্রিম ফিল্টার উপাদান দ্বারা আটকে যায়। এবং উচ্চ প্রবাহের কাপ-টাইপ লাইন ফিল্টারগুলি উচ্চ চাপ সিস্টেমে সুপারিশ করা হয় যার জন্য উচ্চ প্রবাহ হার এবং সর্বাধিক ফিল্টার পৃষ্ঠের ক্ষেত্রফল উভয়ই প্রয়োজন। শিল্প এবং রাসায়নিক প্রক্রিয়াকরণ ক্ষেত্রে ব্যাপকভাবে ব্যবহৃত, কাপ ডিজাইনটি ডিস্ক-টাইপ ইউনিটের তুলনায় ছয় গুণ বেশি কার্যকর ফিল্টার এলাকা প্রদান করে।
ফিচারসর্বোচ্চ কাজের চাপ ৬০,০০০ পিএসআইজি (১৩৭৯ বার) পর্যন্তকাজের তাপমাত্রা -১০০℉ থেকে ৬৫০℉ (-৭৩℃ থেকে ৩৪৩℃)উপলব্ধ আকার ১/৪, ৩/৮, ৯/১৬ ইঞ্চিউপকরণ: 316 স্টেইনলেস স্টিল: বডি, কভার এবং গ্ল্যান্ড নাটফিল্টার: 316L স্টেইনলেস স্টিলডুয়াল-ডিস্ক ফিল্টার ফ্লেমেন্ট: ডাউনস্ট্রিম/আপস্ট্রিম মাইক্রন ৫/১০, ১০/৩৫ এবং ৩৫/৬৫ উপলব্ধউচ্চ প্রবাহ কাপ-টাইপ ফিল্টার উপাদান: স্টেইনলেস স্টিল সিন্টার্ড কাপ। স্ট্যান্ডার্ড উপাদানগুলি 5, 35 বা 65 মাইক্রন আকারের পছন্দে উপলব্ধ।
সুবিধাদিফিল্টার উপাদানগুলি দ্রুত এবং সহজেই প্রতিস্থাপন করা যেতে পারেপ্রবাহমান অবস্থায় চাপের পার্থক্য ১,০০০ সাই (৬৯ বার) এর বেশি হবে নাকাপ-টাইপ লাইন ফিল্টারগুলি নিম্নচাপ ব্যবস্থায় সুপারিশ করা হয় যেখানে উচ্চ প্রবাহ হার এবং সর্বাধিক ফিল্টার পৃষ্ঠের ক্ষেত্রফল উভয়ই প্রয়োজন।কাপ ডিজাইনটি ডিস্ক-টাইপ ইউনিটের তুলনায় ছয় গুণ বেশি কার্যকর ফিল্টার এলাকা প্রদান করে।
আরও বিকল্পঐচ্ছিক উচ্চ প্রবাহ কাপ-টাইপ এবং ডুয়াল-ডিস্ক লাইন ফিল্টার